玻璃的離子鍍膜法

新聞發布時間：2013-10-10新聞瀏覽次數：2979新聞作者：錦泰特種玻璃

玻璃的離子鍍膜法實質上是將蒸發法與濺射法相結合的方法。其與蒸發法的相似處在于成膜物質作為蒸發源在熱源的作用下蒸發逸出。與濺射法的 相似處在于成膜物質與玻璃基體之間存在著強大當場，使氣體發生輝光放電而產生等離子。與二者的不同之處在于用等離子體撞擊的是已經蒸發出的成膜物質原子或分子，使其發生電離，從而使成膜物質以離子狀態加速轉移到玻璃基體上。
在一密閉的充有惰性氣體（如氬氣）的真空鍍膜室中，成膜物質蒸發源放在下部的坩堝中，用電阻，電子槍或高頻加熱，使成膜物質蒸發。蒸發源坩堝裝在下部的陽極上，而玻璃片裝在鍍膜室上部的陰極上。鍍膜室真空度為10-2～10-3Pa，陰極負電壓為-1000～-5000V。鍍膜開始前為了清潔玻璃表面，增強膜的附著力，先在陰極通負電壓，使電離的氬氣體等離子轟擊玻璃表面，進行濺射清洗，然后再鍍膜。鍍膜時使成膜物質原子蒸發進入氣體等離子場，并受到等離子體撞擊而電離成離子狀態。此成膜物質離子在電場中被加速。根據所加電壓的不同，離子加速的能量可達1～1000eV，然后沉積在安裝于陰極的玻璃基體上，形成薄膜。
同陰極濺射法一樣，離子鍍膜法可以鍍各種膜。金屬膜如，金、銀、銅等。氧化物膜如二氧化鈦膜，二氧化硅膜等。還有氟化物膜，硫化物膜，氮化物膜，硼化物膜及其混合物膜。此法也可鍍單層膜和多層膜。其獨特的優點如下：
(a) 等離子轟擊清潔玻璃表面，使膜與玻璃的附著力增強，膜層不易脫落；
(b) 膜層的致密度高，甚至與成膜物質本身的密度相同；
(c) 繞鍍性能好。玻璃制品背面也能鍍上。對形狀復雜的玻璃制品，能產生相對均勻的鍍層。適合于玻璃工藝品。而陰極濺射法則一般適宜于平板玻璃；
(d) 成膜物質蒸發電離后被電場加速，沉積速度快，鍍膜效率高。沉積速度可達1～50µm/min。而一般陰極濺射法速度只有0.01～1µm/min。